未来物質領域M1コロキウム 2011年6月29日 第１発表者
藤原康司（田中研）
服部 梓
Three dimensionally nanopatterned MgO substrate
The transition metal oxide materials have attracted strong interest because of their various properties, and in particular, much attention has been paid the transition metal oxide nanostructures in an effort to apply the nanoelectronic devices. In order to achieve such as functional nanodevices, reliable method for controlling size, position, and shape of high quality oxide nanostructures is essential. For this purpose, the three dimensionally nanopatterned substrates which enable high temperature deposition are strongly required. MgO single crystal is one of the most suitable substrates for epitaxial growth of transition metal oxides. I have been tried to fabricate the three dimensionally nanopatterned MgO substrates by combining top-down nanoimprint lithography with bottom-up pulse laser deposition, and I succeeded to fabricate them by controlling their anisotropic growth. I will present the three dimensionally nanopatterning technique, the three dimensionally nanopatterned MgO substrates, and MgO growth mechanism.
3次元MgOナノパターン基板 ～FZOナノ細線構造作製～
多彩な物性を示す遷移金属酸化物のナノエレクトロニクスデバイス実現のためには、 形状・位置・サイズを制御した高品質な酸化物ナノ構造が必要である。 我々の研究室では、トップダウン方式のNanoimprint lithographyとボトムアップ方式の Pulse laser depositionを融合した3次元ナノ構造作製技術を開発してきた。 そこで、高温(~500℃)蒸着可能な3次元ナノパターン基板を準備することで、 酸化物エピタキシャルナノ構造が作製できる。 MgOは多くの酸化物をエピタキシャル成長させるのに最適な基板で、強い成長異方性がある。 その成長異方性を制御することで3次元MgOナノパターン基板を作製することができる。 発表では3次元MgOナノワイヤパターン基板作製法とXRD、SEMなどによる構造解析の結果を報告する。
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